溅射离子泵（Sputter Ion Pump，简称SIP）是一种高真空抽气设备，主要用于制备高*材料、薄膜生长、微电子器件制造等领域。
SIP工作原理主要包括溅射过程和离子抽气过程两个方面。溅射过程是指在真空室内，将想要抽气的物质制成靶材，通过向靶材表面轰击高能的气体离子，使得靶材表面的原子和分子被击碎和弹出，飞向真空室内的各个方向。这些被击碎后的原子和分子，将随着气体分子一起 diffused 至各处，便是设备最初的稀薄气体。
离子抽气过程则是将这些离子吸附在真空室内的表面上，从而将空气分子从真空室内抽出，最终达到高真空状态。具体来说，离子在真空室内的远离表面与气体分子碰撞时，将传递能量，并将气体分子加速到超过绝热壁材料截面的较高动能水平。然后，气体分子开始从绝热壁材料释放，并通过新的碰撞和跳跃逐渐传递到真空室的镀膜表面上。当分子沉积在表面上时，面内强的结合原子使它们被路过的离子击碎，并释放漂移离子，并在真空环境中保持这个过程，直到达到所需的真空级别。
整个泵的工作过程中，清洁非常重要。因为泵的增益特征会将真空室中的微尘累积起来，而高真空的粘附力将使这些微尘所代表的 杂质与真空环境保持稳定的吸附。这些杂质会附加在泵永久磁体、真空室和其他表面内，必须定期拆开泵进行清洁，以确保其高真空状态。
总而言之，溅射离子泵是一种高效的高真空抽气装置，其抽气速率和压力范围都很广泛，能够满足多种领域的需求。
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